HORIBA/堀场SLIA-5000二氧化硅分析仪，二氧化硅（SiO2）的管理对于防止水垢的形成至关重要。这是因为涡轮机中存在的水垢会降低发电效率，尤其是对火力发电厂和核电厂，用于测量锅炉水和纯水中的微量二氧化硅。

HORIBA/堀场SLIA-5000二氧化硅分析仪的产品详情：

二氧化硅（SiO2）的管理对于防止水垢的形成至关重要。这是因为涡轮机中存在的水垢会降低发电效率，尤其是对火力发电厂和核电厂。通过HORIBA多年来在分析领域的技术经验，研发了稳定性和可维护性佳的SLIA-5000二氧化硅水质分析仪，用于测量锅炉水和纯水中的微量二氧化硅。

产品特点：

测量时间5 分钟，重复性±2%F.S.

具备极快的响应速度和高重复性的测量结果。

宽量程

从高灵敏度的 0~10 μg/L 到高浓度的 0~5.0 mg/L 都能实现测量。

自诊断功能

自我诊断多种异常，例如采样或试剂供应异常，校正异常，光源异常和内部温度异常。

自动校正功能

每次测量自动零点校正，量程校正可预设为在特定时间执行。

能够自动切换测量周期

当采样浓度超过设定浓度范围时自动缩短测量周期，当采样浓度低于设定的浓度范围时自动延长测量周期，这样能够节省电力和试剂。

提高可操作性

配备彩色LCD 触摸屏，可操作性强。

HORIBA/堀场SLIA-5000二氧化硅分析仪的产品参数：

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高灵敏度二氧化硅浓度计 SLIA-300

满足以0.01µg/L (0.01 ppb) 的较高灵敏度测量超低密度二氧化硅的客户需求。半导体生产制程中使用的超纯水可以通过使用离子交换树脂进一步纯化。快速捕获从离子交换树脂中溶解的二氧化硅可以控制超纯水的质量，这对制程十分重要。HORIBA Advanced Techno 开发并采用了一种新的“长光路径长度测量单元"，能够对超低密度二氧化硅进行高灵敏度测量，同时还提供紧凑的桌面型号，以提高实用性。该产品具有自诊断等一系列标准功能以及高速响应和高灵敏度等新的性能改进，为半导体生产制程中的纯水工艺提供了更强的支持。

产品参数：