HORIBA/堀场SLIA-300二氧化硅分析仪/浓度计，满足以 0.01µg/L (0.01 ppb) 的较高灵敏度测量超低密度二氧化硅的客户需求，采用了一种新的“长光路径长度测量单元”，能够对超低密度二氧化硅进行高灵敏度测量，同时还提供紧凑的桌面型号，以提高实用性。该产品具有自诊断等一系列标准功能以及高速响应和高灵敏度等新的性能改进，为半导体生产制程中的纯水工艺提供了更强的支持。

HORIBA/堀场SLIA-5000二氧化硅分析仪，二氧化硅（SiO2）的管理对于防止水垢的形成至关重要。这是因为涡轮机中存在的水垢会降低发电效率，尤其是对火力发电厂和核电厂，用于测量锅炉水和纯水中的微量二氧化硅。

HORIBA/堀场HU-200SS悬浮物分析仪/MLSS仪，现场安装型MLSS仪（四线制传输），连接浸入式MLSS传感器（SS-90）并测量活性污泥中的MLSS。使用近红外辐射透射法可以测量范围广泛（0-2000mg/L）的SS含量，且具有良好的重复性。

HORIBA/堀场TW-150在线水质分析仪是一个为饮用水厂和配水厂设计的过程水质量测量系统。TW-150监测浊度、色度、游离性余氯、水压和pH值，无需任何试剂进行测量。这种无需化学试剂的方法降低了运营成本，只需要少量的维护，并提高了过程控制。

HORIBA/堀场HF-960M低浓度型HF/HCl/NH3浓度计采用的传感器具有出色的耐腐蚀性，可对低浓度的化学品进行高精度、高速测量，因此是单槽清洗和晶圆清洗的理想选择。HF-960M 也是一款环保产品，使用无铅焊料将芯片嵌入印刷电路板。

HORIBA/堀场CS-620F光纤型高温磷酸浓度计，在3D NAND 制程中，沉积几十层二氧化硅和氮化硅，并使用高温磷酸选择性地刻蚀氮化硅层。能够在高达170℃ 的高温下进行测量。使用吸收光谱进行连续测量，与其他方法相比，需要的维护和耗材更少。

HORIBA/堀场CS-900非接触式化学药液浓度计，为达到半导体湿法制程中所需的严格化学药液浓度控制，HORIBA通过设计紧凑设备，以及通过其原有传感器设计保持稳定测量和确保操作人员安全，实现更强大功能以满足需求。

HORIBA/堀场LO-300油膜检测仪是一款运用半导体激光束扫描水面，高精度监测漂浮油膜的激光扫描式检测仪。无论是水面，还是地面上漂浮或是附着的油膜，都可以使用 LO-300 轻松进行检测。通过安装摄像头单元，可以记录到警报发生前后的画面。